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那諾-馬斯特中國有限公司
Sputtering/磁控濺射系統(tǒng),PECVD/等離子增強化學(xué)氣相沉積,PA-MOCVD/等離子輔助MOCVD,ALD/原子層沉積,Thermal Vacuum/熱真空系統(tǒng),TE&EBE/熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)鍍膜,PE&RIE/等離子刻蝕及反應(yīng)離子刻,IBM&IBE/離子銑離子束刻蝕,ICP&DRIE/感應(yīng)耦合等離子及深硅,PLD/脈沖激光沉積系統(tǒng),Ion Beam Sputter/離子束濺射系,Cleaner&Megasonic/兆聲清洗去膠,Cleaner&Ion Beam/離子束清洗系,Cleaner&
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磁控濺射系統(tǒng)NSC-4000 (M)
面議
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SWC-4000 (C) 兆聲清洗系統(tǒng)
面議
0詢價
LSC-4000 (D) 兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
面議
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SWC-3000 (D) 兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
面議
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NPC-3500 (A) 全自動等離子清洗機去膠機
面議
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SWC-4000 (M) 兆聲掩模板清洗機
面議
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LSC-5000 (AC) 全自動兆聲大基片清洗系統(tǒng)
面議
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