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企業(yè)免費(fèi)會(huì)員第1年

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Sputtering/磁控濺射系統(tǒng)，PECVD/等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，PA-MOCVD/等離子輔助MOCVD，ALD/原子層沉積，Thermal Vacuum/熱真空系統(tǒng)，TE&EBE/熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)鍍膜，PE&RIE/等離子刻蝕及反應(yīng)離子刻，IBM&IBE/離子銑離子束刻蝕，ICP&DRIE/感應(yīng)耦合等離子及深硅，PLD/脈沖激光沉積系統(tǒng)，Ion Beam Sputter/離子束濺射系，Cleaner&Megasonic/兆聲清洗去膠，Cleaner&Ion Beam/離子束清洗系，Cleaner&

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供應(yīng)產(chǎn)品

圖片	產(chǎn)品
	NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NLD-4000 (ICPA) PEALD系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NLD-3500 (A) 全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NLD-4000（ICPM）PEALD原子層沉積系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NTE-4000 (A) 全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NTE-3500 (M) 熱蒸發(fā)系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NTE-3000 熱蒸鍍系統(tǒng) 面議	0詢價(jià)
	NPC-4000 (M) 等離子清洗機(jī) 面議	0詢價(jià)

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