【儀器網(wǎng) 行業(yè)應用】研究顯示NexION 2200 ICP-MS具有良好的穩(wěn)定性，適用于濃鹽酸（HCl）中ng/L水平的超痕量雜質(zhì)的常規(guī)定量。數(shù)據(jù)表明UCT可有效消除氯基體帶來的質(zhì)譜干擾。

　　在反應模式下，可在SEMI C27-0918 Tier-D水平直接測量20% HCl中的雜質(zhì)。這種方法消除了復雜的樣品預處理或稀釋的需求，從而最大限度地降低了污染風險。

　　01實驗

　　所有樣品制備和分析步驟均在受控實驗室中100級性能的潔凈間中進行。

　　樣品和標準溶液制備

　　采用標準加入法（MSA）直接分析未稀釋的20%超純鹽酸（Tamapure-AA 10，Tama Chemicals，日本神奈川）。通過對幾組10 mg/L多元素標準品（珀金埃爾默Pure，珀金埃爾默，美國康涅狄格州謝爾頓）進行連續(xù)稀釋，并將最終標準品直接加標到20% HCl中，制備標準溶液。

　　儀器

　　所有實驗均使用NexION 2200 ICP-MS（珀金埃爾默，美國康涅狄格州謝爾頓）執(zhí)行。本文使用兩種反應氣體（NH3和O2）來解決質(zhì)譜干擾。P、S、As和Se使用O2為反應氣體在質(zhì)量轉(zhuǎn)移模式中測量，其余元素以NH3作為反應氣體在On Mass模式中測量。在1%HNO3中加入1000 ppt標準溶液，對操作條件進行優(yōu)化。儀器參數(shù)和進樣組件見表2。每種分析物的模式和反應池帶通設置列在表3中。

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