【儀器儀表網(wǎng)  專題推薦】手機(jī)CPU生產(chǎn)制造過(guò)程中，會(huì)大量的采用到水，用作晶片清洗和化學(xué)浴中化合物的溶解稀釋。和我們平時(shí)生活飲用水的規(guī)定有所不同，手機(jī)CPU需要采用超純水。超純水，究竟規(guī)定有多高呢?半導(dǎo)體行業(yè)用超純水中金屬雜質(zhì)的檢測(cè)，可借助于電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

　　根據(jù)SEMIF63-0918《半導(dǎo)體加工中超純水使用指南》，除B(50ppt)和Ni(3ppt)外，26種金屬污染物的目標(biāo)值應(yīng)小于1ppt。比GB5749-2006《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》中，規(guī)定的鉛限量值0.01mg/L，低了1萬(wàn)倍。如果按照一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)游泳池按照長(zhǎng)50米，寬25米，深2米計(jì)算，那么相當(dāng)于400個(gè)游泳池里才允許有1克金屬污染物。

　　這么低含量的金屬雜質(zhì)如何才能準(zhǔn)確的檢測(cè)呢?

　　要在短時(shí)間內(nèi)測(cè)定出此類具有如此低含量的元素，可選的技術(shù)即為電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)。

　　儀表設(shè)備NexION5000是業(yè)界為數(shù)不多的化學(xué)高分辨多重四極桿ICP-MS，由四組四極桿組成，其性能超越了高分辨ICP-MS和傳統(tǒng)的三重四極桿技術(shù)，無(wú)論是在背景等效濃度還是在檢出限，NexION5000都有數(shù)量級(jí)上的改善。

　　對(duì)于超純水的所有分析均采用NexION5000ICP-MS在標(biāo)準(zhǔn)配置下進(jìn)行，儀器參數(shù)如下表：

　　對(duì)于BEC和DL的測(cè)定，采用10、20、40和60ppt標(biāo)準(zhǔn)建立校準(zhǔn)曲線。所有曲線的線性回歸值(r2)均大于0.999，這表明分析的線性度好，能夠在低濃度下準(zhǔn)確測(cè)定，并且能夠有效消除干擾。下圖分別示出了“標(biāo)準(zhǔn)MS/MS”模式、“反應(yīng)(NH3)MS/MS”模式和“反應(yīng)(O2)質(zhì)量轉(zhuǎn)移”模式下的四種典型校準(zhǔn)曲線。

　　NexION5000化學(xué)高分辨多重四極桿ICP-MS，可以輕松達(dá)到半導(dǎo)體行業(yè)用超純水中無(wú)機(jī)元素的SEMI或ASTM規(guī)定，具有卓越的消除質(zhì)譜干擾和痕量元素檢測(cè)能力。